1英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-1-LD

簡要描述：HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭，可安裝直徑為1英寸的靶材?？膳c直流、脈沖直流和射頻電源相匹配，以至于可以濺射各種靶材（如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的結(jié)構(gòu)設(shè)計，可提高鍍膜質(zhì)量。

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更新時間：2025-02-10
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薄膜制備全套設(shè)備

3靶等離子濺射儀火焰輔助噴霧熱分解涂覆設(shè)備超聲波霧化模塊多功能試樣表面處理機(jī) 小型蒸鍍儀高真空蒸發(fā)鍍膜儀小型磁控射頻濺射鍍膜儀射頻等離子磁控濺射鍍膜儀直流等離子磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射儀提拉涂膜設(shè)備旋轉(zhuǎn)涂層設(shè)備（勻膠機(jī)）流延涂覆機(jī) 磁控濺射鍍膜設(shè)備蒸發(fā)鍍膜設(shè)備等離子鍍膜設(shè)備熱噴涂鍍膜設(shè)備/靜電紡絲鍍膜設(shè)備濺射源及真空腔體查看全部產(chǎn)品

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詳細(xì)介紹

HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭，可安裝直徑為1英寸的靶材?？膳c直流、脈沖直流和射頻電源相匹配，以至于可以濺射各種靶材（如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的結(jié)構(gòu)設(shè)計，可提高鍍膜質(zhì)量。

技術(shù)參數(shù)

特點(diǎn) ?	采用高質(zhì)量的不銹鋼和陶瓷材料制作采用電磁場的有元計算法來設(shè)計永磁體，以得到較高的磁場強(qiáng)度和均強(qiáng)場分布磁體表面涂有一層保護(hù)層，以防止冷卻水的腐蝕，延長其使用壽命標(biāo)準(zhǔn)的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配安裝是采用標(biāo)準(zhǔn)真空接頭，便于操作更換靶材較為簡單，無需調(diào)整濺射頭的高度配有一塊銅靶
濺射頭（點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料）	濺射頭的直徑:46.3mm 所用靶的直徑:1.0 ± 0.02"(25.4mm) 靶材的zui大厚度: 1/8" (3mm) 磁環(huán):NdFeB稀土永磁鐵桿的直徑: 3/4" O.D.
所需功率	DC (zui大) 250 W RF （zui大）100 W
zui大陰極濺射電流	3A
陰極濺射電流	200 - 1,000 V
可選壓力范圍	~1 mTorr 至1 Torr
濺射厚度均勻性圖	注意：此圖是采用磁控濺射得的到一個200nm的薄膜，所用靶材為1英寸的銅靶。薄膜是沉積在氧化的硅片上，實驗參數(shù)為：功率：直流150W 真空環(huán)境：10mTorr(Ar) 靶材與基片的距離：75mm
水冷卻	所需水流量： 1/2 GPM 進(jìn)水溫度：<20 C 水管接頭：0.25" O.D快插頭
接頭	電路連接接頭：標(biāo)準(zhǔn)的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配本公司會贈送一高真空快速接頭此快速接頭的內(nèi)徑為0.75"，可將濺射頭安裝在真空腔體上，真空腔體上的安裝孔直徑為1英寸，真空腔體的壁厚不得大于1英寸
產(chǎn)品長度	14英寸（355.6mm)
產(chǎn)品重量	1.36kg
傾斜裝置	濺射頭相對于桿zui大可傾斜+/- 45度傾斜裝置上有刻度線，可觀察到靶頭傾斜的角度
可選配件	循環(huán)水冷機(jī)，流量為16L / min ，水箱容積為6L 本公司可提供各種配件可與HVMSS-SPC-1-LD配套，讓客戶自己搭建磁控濺射儀
質(zhì)保期	一年質(zhì)保期終生維護(hù)
應(yīng)用	在真空腔體中HVMSS-SPC-1-LD磁控濺射頭可制作各種薄膜，下面是一些應(yīng)用：薄膜涂覆半導(dǎo)體器件磁記錄介質(zhì) 超導(dǎo)薄膜量子計算器件 MEMS 生物傳感器納米技術(shù) 超晶格顆粒膜記憶合金組合薄膜沉積光學(xué)薄膜